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      第三屆上海國際展會(huì )

      字號:T|T
      文章出處:責任編輯:Fanny 發(fā)表時(shí)間:2014-07-25 11:00:00

       

      展會(huì )摘要:

      APFE2014第三屆上海國際背光源及面板燈技術(shù)展覽會(huì )將于2014717-19日在上海世博展覽館舉辦,其主辦單位為正亞展覽機構支持協(xié)辦單位:臺灣光電產(chǎn)業(yè)半導體協(xié)會(huì )、面板燈網(wǎng)、國內十幾家相關(guān)光電與平板照明行業(yè)協(xié)會(huì )鼎力支持

      承辦單位:上海富亞展覽有限公司 廣州正亞展覽有限公司

      【展會(huì )介紹】

      致力于提高背光模組、面板燈、超薄燈箱的制造技術(shù)。全面展示背光模組、面板燈、超薄燈箱的制造材料與技術(shù)設備的專(zhuān)業(yè)大展。

      APFE2014】將于2014717-19日在上海世博展覽館舉辦,展會(huì )面積18,000平米,800個(gè)展位。展會(huì )致力于提高背光源,面板燈,超薄燈箱的制造技術(shù),全面展示背光源,面板燈,超薄燈箱,面光源等背光技術(shù)應用領(lǐng)域用導光板、擴散板、光學(xué)膜、光源、電源及相關(guān)加工、組裝、檢測儀器設備。匯集國內外領(lǐng)先的材料供應商,技術(shù)設備和服務(wù)機構。上屆展會(huì )吸引6000多家來(lái)自背光源,面板,面板燈,超薄燈箱,電子顯示制造商,材料代理商,OEM代工廠(chǎng)等近20,000名專(zhuān)業(yè)觀(guān)眾。

      上屆展會(huì )于2013717-19日在上海世博展覽館成功舉辦,得到國內外背光技術(shù)領(lǐng)域品牌企業(yè)大力支持,如TEKNEK、Protem、Sekisui、Fuji Shoko、3M、Megaro、Sysco、Hi-land、Toshiba machine、住友重機、臺灣郡威、臺灣楊崎、菊川鐵工所、岱棱、韓國樹(shù)研光學(xué)、臺灣亞德科、美國福深、臺灣佑順發(fā)、豪晶、新釉晶、茂輝、東宏商貿、旌陽(yáng)、迎輝科技、三菱、康得新、特弘眾普、領(lǐng)航科技、布雷德、菲斯特、凱鑫森、德龍、金昆、中電二所、福和達、民特英、賽德、富鑫林、科信園、歐蓓特、嚴誠、濟南森峰、武漢三工、博業(yè)、金強、林瀚科技、創(chuàng )可激光、豐日、飛新達、欽揚等企業(yè)參展。大會(huì )共接待來(lái)自終端電子制造商、手機、電腦、家電、面板、背光模組、顯示模塊、導光板、光學(xué)膜材料商、精密模切、平板照明、超薄燈箱等相關(guān)光電顯示制造商將近20,000名觀(guān)眾到場(chǎng)參觀(guān),成為光電顯示行業(yè)設計開(kāi)發(fā)、貿易合作、產(chǎn)品采購和技術(shù)交流的高效對接平臺。

      展會(huì )致力于推動(dòng)業(yè)界各企業(yè)分支領(lǐng)域的創(chuàng )新與商業(yè)發(fā)展,匯聚世界各地科研領(lǐng)域專(zhuān)家學(xué)者,和國際知名高端企業(yè),APFE2014第三屆上海國際背光源及面板燈技術(shù)展覽是您尋求商機,展示實(shí)力的最好時(shí)機。

       

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