曝光機基本工作原理：
在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱(chēng)為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域，從而在抗蝕劑上形成精細圖形。
曝光機的應用范圍：
半導體生產(chǎn)線(xiàn)、微電子生產(chǎn)、LCD顯示、LCD顯示、線(xiàn)路板生產(chǎn)、PCB產(chǎn)品。