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曝光機因素
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文章出處：萬(wàn)志宇責任編輯：HE
發(fā)表時(shí)間：2016-11-09 11:00:00
曝光的因素：
除干膜光致抗蝕性的性能外，光源的選擇，曝光時(shí)間（曝光量）的控制，照相底板的質(zhì)量等都是影響曝光成像質(zhì)量的重要因素，曝光機的真空系統和真空框架材料的選擇以及操作系統環(huán)境的溫濕度，潔凈度也會(huì )影響曝光成像的質(zhì)量。
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