影響曝光成像質(zhì)量的因素，除干膜光致抗腐蝕的性能外，光源的選擇，曝光時(shí)間（曝光量）的控制，照相地板的質(zhì)量等都是影響曝光成像質(zhì)量的重要因素，曝光機的真空系統和真空框架材料的選擇以及操作系統環(huán)境的溫濕度，潔凈度也會(huì )影響曝光成像的質(zhì)量。

  曝光是使光成像阻焊油墨接受紫外光照射，光引發(fā)劑分解為自由基，從而攻擊樹(shù)枝，形成自由基連鎖聚合，瞬間使聚合物分子增大，這是膠膜應不溶于弱堿，但可溶于強堿，從而達到既可以顯影又可以及時(shí)使有問(wèn)題的板子返工處理的目的，印刷板焊盤(pán)部分被地板所擋住，未曝光的膠膜顯影時(shí)去除，已曝光的部分顯影后留存。

  各種感光油墨控制曝光能量一般為300~500mj/cm2,但黑色的油墨高些的能量可達800mj/cm2.

  曝光量過(guò)高，易產(chǎn)生光散射，焊盤(pán)上產(chǎn)生余膠，曝光不足膠膜受到侵蝕失去光澤或者產(chǎn)生側蝕。