日本USHIO電機開(kāi)發(fā)出了可發(fā)出波長(cháng)為193nm單色光的準分子紫外燈（Excimer Lamp）。該成果為全球首創(chuàng )。無(wú)需使用昂貴的激光器即可用于A(yíng)rF液浸光刻（Lithography）所需要的保護膜、材料。2008年9月開(kāi)始面向研發(fā)用途銷(xiāo)售。

  配備了此次開(kāi)發(fā)的燈管的照射裝置，由于采用了ArF準分子紫外燈，不需要激光器那樣的繁瑣的氣體更換工作。同時(shí)，也省去了氣體配管以及有毒氣體排出裝置。維修方面，只需定期更換燈管，不需要調整光軸。初期成本僅為半導體光刻專(zhuān)用ArF激光器的數分之一。使用時(shí)，通過(guò)選擇燈管與燈具，可滿(mǎn)足多種照射范圍的要求。照射裝置的尺寸為430mm×200mm×150mm，重量為7kg，能夠攜帶使用。

  該公司計劃在2007年12月5～7日千葉縣幕張Messe會(huì )展中心舉辦的“SEMICON JAPAN 2007”展會(huì )上展出該產(chǎn)品。