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UV干式光清洗特點(diǎn)
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文章出處:萬(wàn)志宇責任編輯:HE
發(fā)表時(shí)間:2016-09-23 15:00:00
UV干式光清洗特點(diǎn):
1、大氣中處理,簡(jiǎn)單方便,環(huán)保無(wú)二次污染,無(wú)需加熱、藥液等處理。
2、清潔度極高,單分子層以下,可以得到從來(lái)處理方法難以想象的清潔度、接著(zhù)性
3、國內獨有的超高出力短波長(cháng)紫外線(xiàn)光源,僅需短時(shí)間(秒單位)照射,發(fā)揮強大的處理能力,從實(shí)驗室進(jìn)入實(shí)用。
4、不對材料的表面產(chǎn)生損傷。
5、相對于濕式清洗或等離子清洗成本低。
6、沒(méi)有液體表面張力的影響,超微細部的清洗容易。
下一篇:UV光固化機特點(diǎn)上一篇: SP-9 250DB的特點(diǎn)
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