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曝光機工作原理
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文章出處:萬(wàn)志宇責任編輯:HE
發(fā)表時(shí)間:2016-08-30 10:00:00
曝光機工作原理
在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱(chēng)為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。
曝光機即電子束曝光機是集電子光學(xué)、電氣、機械、真空、計算機技術(shù)等于一體的復雜的半導體加工設備。
曝光機是20世紀60年代初從掃描電子顯微鏡基礎上發(fā)展起來(lái),70年代以后廣泛應用于半導體集成電路制造業(yè)。
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